半導體工業(yè)的污水應(yīng)該怎么處理？
來源：無錫純水設(shè)備??????2022/12/1 10:27:58??????點擊：
【無錫水處理設(shè)備http://m.shchangxing.com】隨著我國經(jīng)濟的高速發(fā)展，半導體行業(yè)的發(fā)展也在迅速崛起，因此在半導體工業(yè)加工的過程中不可避免的會產(chǎn)生含有氟離子，銅離子，磷廢水的污染物廢水，下面就來列舉一些半導體工業(yè)廢水的處理方法都有哪些?
半導體工業(yè)的污水應(yīng)該怎么處理？
方法/步驟
含氟離子廢水處理：
將廢水的p H值調(diào)整在6-7左右，再加入的過量的Ca Cl2和適量的絮凝劑，后續(xù)會行形成沉淀，部分污泥循環(huán)成為載體，在沉淀池中通過重力沉降能夠?qū)崿F(xiàn)泥水分離。
第一次反應(yīng)時能夠去除80%的氟，純水設(shè)備再一次加入絮凝劑，氟化鈣及其其他形態(tài)沉淀，利用污泥泵輸送到污泥沉淀池,用板框式脫水機壓成泥餅外運，這時候產(chǎn)生的壓濾液進入其他的系統(tǒng)進一步處理。
含磷離子廢水處理：
含磷廢水中磷主要以PO43-為主，采用的方法為化學沉淀法和混凝劑沉降法的組合工藝，通過加入Ca Cl2生成難溶于水的Ca5(PO4)3OH沉淀。
一級反應(yīng)池的p H調(diào)整到5-6左右，二級反應(yīng)池p H調(diào)整到8.5-9，三級反應(yīng)池p H調(diào)整到9-9.5(確保完全生成羥基磷酸鈣)，純水設(shè)備此工藝流程比較簡單，費用也比較低，對于含磷廢水處理有很大的適用性。
與研磨廢水進行混合：
將半導體器件制造中產(chǎn)生的電鍍廢水和研磨廢水進行混合，混合廢水泵入浸沒式膜過濾裝置過濾，過濾的水泵入納濾膜過濾裝置過濾，經(jīng)過納濾膜過濾裝置過濾的水即可直接回用。純水設(shè)備，實驗室純水設(shè)備, 無錫純水設(shè)備,無錫水處理設(shè)備，無錫去離子水設(shè)備, 醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。 半導體超純水設(shè)備。
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